Nuntii

Nuntii Industriales: Sumitomo Chemical productionem magnam epilaminarum InP quattuor unciarum incipit.
ab administratore die XXVI mensis Septembris anni VII
Sumitomo Chemical Co Ltd, in Iaponia sita, productionem magnam crustularum epitaxialium phosphidorum indii (InP) quattuor unciarum in officina sua Ibaraki in Hitachi, praefectura Ibaraki, instituit et novas res vendere coepit. Societas dicit...
Plura lege
Nuntii Industriales: Nexperia collaborationem cum Aurobay in semiconductoribus potentiae pro machinis electricis explorat.
ab administratore die XXVI mensis Augusti, anno XXXI
Nexperia BV, designator et fabricator instrumentorum discretorum Nijmeganae in Nederlandia (quae fabricas laminarum Hamburgi in Germania et Hazel Grove Mancunii in Britannia administrat), dicit se exploraturam esse collaborationem strategicam in systematibus potentiae provectis...
Plura lege
Nuntii Industriales: NXP Malaysia Expansio Officinae Probationum ad Duplicandam Capacitatem Anno 2028
ab administratore die XXVI mensis Augusti, anno XXIV
Die XII mensis Augusti, anno MMXXVI (hora locali), NXP Semiconductors, societas globalis praestans in arte semiconductorum autocinetica et industriali, caerimoniam inaugurationis novae officinae involucrorum et probationum in Petaling Jaya, Malaysia, habuit. Ut expansio magna officinae probationum iam exstantis...
Plura lege
Nuntii Industriales: Inopia Copiae Condensatorum Ceramicorum Multistratorum Impellunt Pretia Augmenta
ab administratore die XXVI mensis Augusti anni MMXVII
Pretium capacitorum ceramicorum multistratorum (MLCC), saepe iocose "oryza" apparatuum technologiae informationis (IT) appellantur, vehementer crescit. Haec ascensio pretii praecipue ob diuturnam inopiam copiae MLCC, quae ob incrementum pecuniae in intelligentia artificiali collocatae causatur...
Plura lege
Taenia Tegminis 13.50mm Calore Obsignata, Praesto pro Taenia Vectoria 16mm
ab administratore die XXVI mensis Augusti anni MMX
Taenia vectoria communis 16mm plerumque cum taenia obtegenti communi 13.3mm congruit. Nihilominus, pro spatio requisito in operationibus obsignationis partium suarum, quidam clientes latitudines taeniae obtegentis alternativas eligunt, vel angustiores vel latiores quam 13.3mm. Rec...
Plura lege
Designatio Taeniae Vectoriae Sinho pro parte CAMBION – Solutio Augusti 2026
ab administratore die XXVI mensis Augusti, anno MMIII
Datum: Aug., 2026 Genus Solutionis: Taenia vectoria consuetudinaria Patria Clientis: USA Fabricator Originalis Componentis: Design Tempus Completionis: 1 Hora Numerus Partis: 450-3704 SOCKET AD FERRUM MONTAndum, PRO .040 (1,02) DIAMET...
Plura lege
Designatio Taeniae Vectoriae Sinho pro parte TESLA – Solutio Iul. 2026
ab administratore die XXVI mensis Iulii, anno XXVII
Datum: Iul., 2026 Genus Solutionis: Taenia vectoria consuetudinaria Patria Clientis: Mexicum Fabricator Originalis Componentis: Design Tempus Completionis: Horae II Numerus Partis: Tesla CUP, INS, RET, WSHR, PCBA 2049904-00-B Par...
Plura lege
Nuntii Industriales: PVA TePla et Fraunhofer IISB Laboratorium Commune pro substratis nitridis aluminii constituunt.
ab administratore die XXVI mensis Iulii anni MMXX
Fraunhofer IISB (Institutum Systematum Integratorum et Technologiae Instrumentorum), Erlangae situm, et PVA TePla AG, fabricator systematum microfluctuum et plasmatis radiofrequentiae, Wettenbergae situm, peritiam suam in Laboratorio Communi ad productionem aluminii coniungunt...
Plura lege
Nuntii Industriales: Keysight et WIN collaborant ut periculum designandi pro componentibus RF altae frequentiae minuant.
ab administratore die XXVI mensis Iulii, anno MMXIII
Keysight Technologies Inc. Santa Rosae, Californiae, Civitatum Foederatarum Americae, et WIN Semiconductors Corp. Taoyuan urbis, Taiwaniae — quae officia fundendi crustulas gallii arsenidae (GaAs) et gallii nitridae (GaN) puras pro communicationibus sine filis, infrastructura et retibus praebet...
Plura lege
Nuntii Industriales: Technologia reGaN IVWorks primum HEMT GaN 742GHz efficit.
ab administratore die XXVI mensis Iulii anni VI
Imago: Machinator IVWorks fontem plasmatis ad usum in systemate MBE hybrido scalae productionis calibrat, incrementum epitaxiale GaN altae uniformitatis et altae qualitatis sustinens. Transitorium nitridi gallii (GaN) altae mobilitatis electronicae...
Plura lege
Nuntii Industriales: SIA Laudat Incitamenta Legis CHIPS pro Cohaerentia
ab administratore die XXVI mensis Iunii, anno XXIX
WASHINGTONIA, XVI Iunii, MMXXVI—Consociatio Industriae Semiconductorum (SIA) hodie declarationem sequentem a Ioanne Neuffer, Praeside et CEO SIA, edidit, quae incitamenta fabricationis a Ministerio Commercii et Cohe... pronuntiata laudat.
Plura lege
Nuntii Industriales: Transistor organicus memoriam, processum signorum et emissionem lucis infra 3.5 V coniungit.
ab administratore die XXVI mensis Iunii, anno XXII
Dum transistor operatur, canalis foraminis formatur, dum stratum duplex electricum cationibus inductum. Investigatores Universitatis Nationalis Seuli transistorem electrochemicum organicum lucis emittentem tensionis infimae excogitaverunt, qui...
Plura lege

1 2 3 4 5 6 Deinde >>> Pagina 1 / 11